解决方案
Applus+解决方案:IWEX提高了对缺陷进行成像的能力,以确定它们是缺陷还是良性。IWEX 是一种全矩阵捕获 (FMC) 技术,是一类新的 UT 检测技术,可捕获全波形或 A 扫描,用于发射阵列中的每个晶片并采集阵列的每个晶片的 A 扫描的所有组合。术语“模式”表示系统使用多少声波反射来创建缺陷图像。其他FMC技术一次生成单一模式,最多三种模式,而IWEX可以同时生成多达13种不同的模式,通过处理由两个64晶片阵列探头生成的16384个A扫描,检测可覆盖从平行检测表面到垂直于检测表面任何方向的缺陷。这是对相控阵的改进,相控阵通常只能“看到”缺陷尖端和角落,而IWEX可以对缺陷表面进行成像。IWEX图像可以作为2D横截面查看,也可以作为3D图像显示,使用户能够更好地了解缺陷。这种更好地“看到”缺陷的能力使用户能够区分缺陷的类型,并将某些可能会增长并导致故障的良性缺陷与其他类型的良性缺陷区分开来。更好的尺寸和区分还使用户能够限定 在线检测ILI 工具,并使他们能够确定 ILI 工具运行中的错误。了解 ILI 测量中的误差有助于工程关键评估,以预测特定类型管道缺陷的故障概率